Ejemplares: Computational lithography

Detalles Bibliográficos
Autor principal:	Ma, Xu, 1983-
Otros autores:	Arce, Gonzalo R.
Formato:	Electrónico
Idioma:	English
Fecha de publicación:	Oxford : Wiley-Blackwell, 2010.
Series:	Wiley series in pure and applied optics.
Materias:	Microlithography > Mathematics. Integrated circuits > Design and construction > Mathematics. Photolithography > Mathematics. Semiconductors > Etching > Mathematics. Resolution (Optics) Electronic books.
Acceso en línea:	https://recursos.uloyola.es/login?url=https://accedys.uloyola.es:8443/accedix0/sitios/ebook.php?id=178332