Computational lithography
Autor principal: | Ma, Xu, 1983- |
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Otros autores: | Arce, Gonzalo R. |
Formato: | Electrónico |
Idioma: | English |
Fecha de publicación: |
Oxford :
Wiley-Blackwell,
2010.
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Series: | Wiley series in pure and applied optics.
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Materias: | |
Acceso en línea: | https://recursos.uloyola.es/login?url=https://accedys.uloyola.es:8443/accedix0/sitios/ebook.php?id=178332 |
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